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光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法

關(guān)鍵詞 化學(xué) , 氣相沉積 , 金剛石薄膜 |2010-12-21 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法公開號(hào)1355329公開日2002.06.26主分類號(hào)C23C1

 

名稱 光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法 
公開號(hào) 1355329  公開日 2002.06.26   
主分類號(hào) C23C16/27  分類號(hào) C23C16/27;C23C16/48 
申請(qǐng)?zhí)?/strong> 00132595.7   
分案原申請(qǐng)?zhí)?/strong>   申請(qǐng)日 2000.11.30   
頒證日   優(yōu)先權(quán)  
申請(qǐng)人 黑龍江省光電技術(shù)研究所    地址 157000黑龍江省牡丹江市光華街106-1號(hào)  
發(fā)明人 申家鏡;邵春雷;彭鴻雁;魏雪峰    國際申請(qǐng)  
國際公布   進(jìn)入國家日期  
專利代理機(jī)構(gòu)   代理人  
摘要   本發(fā)明公開了一種光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法,其特征是在熱絲化學(xué)氣相沉積的工藝中,同時(shí)采用波長為 3.5μm的紅外光對(duì)生長襯底表面進(jìn)行照射。本發(fā)明可提高原料氣體的分解率,從而提高金剛石膜的沉積速度,改善金剛石膜的質(zhì)量
 

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