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一種激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法

關(guān)鍵詞 激光化學(xué)氣相沉積 , 金剛石膜|2010-12-10 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱一種激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法公開號1122378公開日1996.05.15主分類號C23C16/26&nb

 

名稱 一種激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法 
公開號 1122378  公開日 1996.05.15   
主分類號 C23C16/26  分類號 C23C16/26;C23C16/48 
申請?zhí)?/strong> 95111978.8   
分案原申請?zhí)?/strong>   申請日 1995.09.11   
頒證日   優(yōu)先權(quán)  
申請人 中國科學(xué)院金屬研究所    地址 110015遼寧省沈陽市沈河區(qū)文化路72號  
發(fā)明人 馮鐘潮; 趙巖; 張炳春    國際申請  
國際公布   進(jìn)入國家日期  
專利代理機(jī)構(gòu) 中國科學(xué)院沈陽專利事務(wù)所    代理人 張晨   
摘要   一種激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法,最低沉積溫度為250℃,其特征在于選用波長在308nm的XeCl準(zhǔn)分子激光作激光源,過程如下:將欲沉積襯底放在高導(dǎo)熱率材料的工作臺上,用XeCl準(zhǔn)分子激光輻照襯底欲沉積金剛石膜區(qū),并在預(yù)抽真空的反應(yīng)室中通入能吸收該激光波長的碳?xì)浠衔锓磻?yīng)氣(含汽化液體或固體)和氫氣,碳?xì)浠衔锓磻?yīng)氣與氫氣的流量比為(1 —3)∶100,在適當(dāng)工藝條件下,在襯底表面沉積出金剛石膜,工藝條件是:單脈沖能量20—500mj/pulse脈寬15—40ns脈沖頻率5—40Hz。本發(fā)明所制膜層純度高,沉積溫度低,易于實現(xiàn),安全可靠。 
 

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