名稱 | 制造碳化硅單晶的方法和用于制造碳化硅單晶的裝置 | ||
公開號 | 1225953 | 公開日 | 1999.08.18 |
主分類號 | C30B29/36 | 分類號 | C30B29/36 |
申請?zhí)?/strong> | 99100967.3 | ||
分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 1999.01.18 | |
頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | [32]1998.1.19[33]JP[31]007537/98;[32]1998.1.26[33] | |
申請人 | 住友電氣工業(yè)株式會社; 西野茂弘 | 地址 | |
發(fā)明人 | 鹽見弘; 西野茂弘 | 國際申請 | 日本大阪府 |
國際公布 | 進(jìn)入國家日期 | ||
專利代理機(jī)構(gòu) | 柳沈知識產(chǎn)權(quán)律師事務(wù)所 | 代理人 | 陶鳳波 |
摘要 | 一種用于制造SiC單晶的裝置,包括:一Si設(shè)置部分,其中放有固態(tài)硅;一籽晶設(shè)置部分,其中放有SiC的籽晶;一合成容器,適合于容納Si設(shè)置部分、籽晶設(shè)置部分和碳;加熱構(gòu)件,適合于加熱Si設(shè)置部分和籽晶設(shè)置部分;和一控制部分,用于向加熱構(gòu)件輸送一指令,以將硅加熱到硅的蒸發(fā)溫度或更高,和將籽晶加熱到高于Si的溫度;其中,由加熱構(gòu)件蒸發(fā)的Si適于達(dá)到籽晶設(shè)置部分。本發(fā)明還涉及制造SiC單晶的方法。 |