名稱 | 一種復(fù)合激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法 | ||
公開號 | 1221806 | 公開日 | 1999.07.07 |
主分類號 | C23C16/26 | 分類號 | C23C16/26 |
申請?zhí)?/strong> | 97122035.2 | ||
分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 1995.09.11 | |
頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | ||
申請人 | 中國科學(xué)院金屬研究所 | 地址 | 110015遼寧省沈陽市沈河區(qū)文化路72號 |
發(fā)明人 | 馮鐘潮; 趙巖; 張炳春 | 國際申請 | |
國際公布 | 進(jìn)入國家日期 | ||
專利代理機(jī)構(gòu) | 中國科學(xué)院沈陽專利事務(wù)所 | 代理人 | 張晨 |
摘要 | 一種復(fù)合激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法,最低沉積溫度為250℃,其特征在于選用波長在308nm的XeCl準(zhǔn)分子激光作激光源,同時復(fù)合輻照紅外激光,波長范圍在1.06μm~10.6μm,過程如下:將欲沉積襯底放在高導(dǎo)熱率材料的工作臺上,用XeCl準(zhǔn)分子激光和紅外激光輻照襯底欲沉積金剛石膜區(qū),并在預(yù)抽真空的反應(yīng)室中通入能吸收該激光波長的碳?xì)浠衔锓磻?yīng)氣(含汽化液體或固體)和氫氣,碳?xì)浠衔锓磻?yīng)氣與氫氣的流量比為(1~3)∶100,在適當(dāng)工藝條件下,在襯底表面沉積出金剛石膜,工藝條件是:XeCl激光單脈沖能量20~500j/pules;XeCl激光脈寬15~40ms;脈沖頻率5~40Hz。本發(fā)明所制膜層純度高,沉積溫度低,易于實(shí)現(xiàn),安全可靠。 |