申請?zhí)? 201720725409.9

申請日: 2017.06.20

申請人: 深圳市正和忠信股份有限公司

發(fā)明人: 阮志明; 潘旋; 曾德強(qiáng); 廖生; 鐘俊超; 譚安平; 張曉柳; 阮炯城; 聶海天

       摘要： 

       本實(shí)用新型公開了一種類金剛石薄膜的沉積設(shè)備，其包括脈沖直流偏壓電源系統(tǒng)、恒流離化裝置和具有真空腔體的沉積殼體，沉積殼體接地且沉積殼體上設(shè)置有抽真空口和進(jìn)出貨爐門，恒流離化裝置包括設(shè)置于沉積殼體外的離化電源和設(shè)置于真空腔體內(nèi)的兩個離化電極，兩個離化電極分別與離化電源電連接，沉積殼體上設(shè)置有用于放置離子源的第一凸腔，真空腔體內(nèi)設(shè)置有加熱管組、氣管組、靶材組和用于放置工件的環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架，脈沖直流偏壓電源系統(tǒng)的電源正極接地，電源負(fù)極與工件轉(zhuǎn)架連接。本實(shí)用新型既可以提高沉積速度，又可以在高光鏡面上沉積光澤度高、致密細(xì)膩、硬度高、耐磨性能好、顏色均勻的裝飾性類金剛石薄膜。

       主權(quán)利要求:

       一種類金剛石薄膜的沉積設(shè)備，其包括脈沖直流偏壓電源系統(tǒng)和具有真空腔體的沉積殼體，所述沉積殼體接地且所述沉積殼體上設(shè)置有抽真空口和進(jìn)出貨爐門，其特征在于，所述類金剛石薄膜的沉積設(shè)備還包括恒流離化裝置，所述恒流離化裝置包括設(shè)置于所述沉積殼體外的離化電源和設(shè)置于所述真空腔體內(nèi)的兩個離化電極，兩個所述離化電極分別與所述離化電源電連接，所述沉積殼體上設(shè)置有用于放置離子源的第一凸腔，所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有加熱管組、氣管組、靶材組和用于放置工件的環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架，所述脈沖直流偏壓電源系統(tǒng)的電源正極接地，所述脈沖直流偏壓電源系統(tǒng)的電源負(fù)極與所述工件轉(zhuǎn)架連接。