申請人:張士駿
發(fā)明人:張士駿
摘要: 本實(shí)用新型公開了一種能夠使金剛石線電鍍鎳層更加均勻的金剛石線鍍鎳裝置,該鍍鎳裝置包括電鍍槽、導(dǎo)電輥、兩組導(dǎo)線輪、鎳電極;其中,電鍍槽具有進(jìn)線口和出線口;導(dǎo)電輥設(shè)置在電鍍槽的進(jìn)線口處;每組導(dǎo)線輪均在電鍍槽內(nèi)部沿電鍍槽的深度方向排布;鎳電極設(shè)置在電鍍槽的內(nèi)側(cè)壁上。本實(shí)用新型中電鍍槽的排線方式可以減少電鍍槽的大小,節(jié)省成本,減少占用的空間;并且充分利用了電鍍槽的空間,提高了電鍍效率。本實(shí)用新型通過在電鍍槽兩端各設(shè)置一組導(dǎo)線輪,可以對金剛石線進(jìn)行約束,防止金剛石線在走線的過程中滑動(dòng)而聚集到一起。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,在所述導(dǎo)電輥(2)和一組所述導(dǎo)線輪(4)之間或者在另一組所述導(dǎo)線輪(4)和所述電鍍槽(1)的出線口(12)之間設(shè)置有導(dǎo)向輪(3)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,每組所述導(dǎo)線輪(4)的中心均在同一垂直線上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,每組所述導(dǎo)線輪(4)中相鄰所述導(dǎo)線輪(4)中心之間的距離等于兩個(gè)所述導(dǎo)線輪(4)的直徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,所述鎳電極(5)為多個(gè),且設(shè)置在所述電鍍槽(1)的與金剛石線走線方向平行的內(nèi)側(cè)壁上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,所述鎳電極(5)通過電極支架設(shè)置在所述電鍍槽(1)的內(nèi)側(cè)壁上,其中:
所述電極支架包括沿所述電鍍槽(1)深度方向的滑道(6)以及能夠沿所述滑道(6)滑動(dòng)的滑塊(7);
所述滑道(6)固定在所述電鍍槽(1)的內(nèi)側(cè)壁上;
所述鎳電極(5)與所述滑塊(7)連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,所述鎳電極(5)通過可伸縮連接桿(8)與所述滑塊(7)連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,所述可伸縮連接桿(8)為中空結(jié)構(gòu),所述中空結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)置有通電導(dǎo)線。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,還包括中控系統(tǒng),所述中控系統(tǒng)控制所述可伸縮連接桿(8)的伸縮以及所述滑塊(7)的滑動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的金剛石線鍍鎳裝置,其特征在于,還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與至少一組所述導(dǎo)線輪相連,控制所述導(dǎo)線輪的轉(zhuǎn)速等于金剛石線的走線速度。