直流電弧噴射沉積金剛石裝置
關(guān)鍵詞 直流 , 電弧噴射 , 沉積 , 金剛石 , 裝置 |2010-12-24 00:00:00|行業(yè)專(zhuān)利|來(lái)源 中國(guó)超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱(chēng)直流電弧噴射沉積金剛石裝置公開(kāi)號(hào)2139581公開(kāi)日1993.08.04主分類(lèi)號(hào)C23C16/26
名稱(chēng) |
直流電弧噴射沉積金剛石裝置 |
公開(kāi)號(hào) |
2139581 |
公開(kāi)日 |
1993.08.04 |
主分類(lèi)號(hào) |
C23C16/26 |
分類(lèi)號(hào) |
C23C16/26;C23C16/50 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong> |
92236738.8 |
分案原申請(qǐng)?zhí)?/strong> |
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申請(qǐng)日 |
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頒證日 |
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優(yōu)先權(quán) |
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申請(qǐng)人 |
北京理工大學(xué) |
地址 |
100081北京市海淀區(qū)白石橋路7號(hào) |
發(fā)明人 |
李榮志; 丁洪生; 朱鶴孫; 閻震 |
國(guó)際申請(qǐng) |
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國(guó)際公布 |
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進(jìn)入國(guó)家日期 |
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專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu) |
北京理工大學(xué)專(zhuān)利事務(wù)所 |
代理人 |
付雷杰 |
摘要 |
一種直流電弧噴射沉積金剛石的裝置,由真空室、裝在真空室上的帶由噴槍體支承的陰極、陽(yáng)極的噴射裝置及鍍膜基底組成,陰極和陽(yáng)極之間裝有一個(gè)以上屏蔽罩,屏蔽罩底部裝有屏蔽噴嘴,該屏蔽噴嘴有約束電弧等離子體和穩(wěn)定電極上的電弧斑點(diǎn)的作用,從而不需要很大原料氣體流量,原料氣體通過(guò)電弧放電區(qū)距離長(zhǎng),這種裝置沉積金剛石效果好。 |
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