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無依托超薄金剛石X光窗口及其制備工藝

關鍵詞 超薄金剛石 , X光窗口 , 制備工藝 |2010-12-22 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網
摘要 名稱無依托超薄金剛石X光窗口及其制備工藝公開號1386897公開日2002.12.25主分類號C23C16/27&n

 

名稱 無依托超薄金剛石X光窗口及其制備工藝 
公開號 1386897  公開日 2002.12.25   
主分類號 C23C16/27  分類號 C23C16/27;H01L31/115;H01L31/18 
申請?zhí)?/strong> 02111270.3   
分案原申請?zhí)?/strong>   申請日 2002.04.04   
頒證日   優(yōu)先權  
申請人 復旦大學    地址 200433上海市楊浦區(qū)邯鄲路220號  
發(fā)明人 應萱同    國際申請  
國際公布   進入國家日期  
專利代理機構 上海正旦專利代理有限公司    代理人 陸飛   
摘要   本發(fā)明屬于光電子功能材料及器件技術領域,具體涉及一種用無依托超薄金剛石多晶薄膜制備的新一代X光窗口及其制備工藝。本發(fā)明采用金剛石薄膜高密度(10#+[9-10]/cm#+[2])成核及優(yōu)化生長工藝,制備無依托超薄金剛石多晶薄膜,再用化學方法刻蝕掉一部分硅基板,形成直徑為4-8毫米的完全無依托超薄金剛石X光窗口。該窗口在50-1550ev波段具有良好的透射率,具有低吸收、高熱導的優(yōu)良特性及很高的抗輻射特性,遠優(yōu)于傳統(tǒng)的X光鈹窗口,可廣泛應用于X光元素分析、深亞微米超大規(guī)模集成電路制版技術、生物醫(yī)學、物理、化學等研究領域    
 

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