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真空下的固相接觸主要有三種方法

關(guān)鍵詞 真空 , 固相接觸|2005-06-15 00:00:00|技術(shù)信息|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 1.真空蒸鍍;2.真空濺射鍍:包括普通濺射,磁控濺射;3.真空離子鍍:包括空心陰極離子鍍,活性反應(yīng)離子鍍。真空下氣相分子的平均自由程增大,蒸發(fā)粒子與氣體分子的碰撞次數(shù)減少,能量損失...

  1.真空蒸鍍;
  2.真空濺射鍍:包括普通濺射,磁控濺射;
  3.真空離子鍍:包括空心陰極離子鍍,活性反應(yīng)離子鍍。
  真空下氣相分子的平均自由程增大,蒸發(fā)粒子與氣體分子的碰撞次數(shù)減少,能量損失減小,有助于提高鍍層與基體的強(qiáng)合力和成膜質(zhì)量。
  真空中,除活性反應(yīng)離子鍍外,均無化合物生成。若使鍍層與金剛石發(fā)生反應(yīng),在可能的前提下,仍須在特定條件下進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)。真空鍍法的缺點(diǎn)是設(shè)備較復(fù)雜,因而投資大。
 

 

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