形成金剛石膜的方法
關(guān)鍵詞 形成 , 金剛石膜|2010-12-10 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱形成金剛石膜的方法公開號(hào)1121963公開日1996.05.08主分類號(hào)C23C14/40
名稱 |
形成金剛石膜的方法 |
公開號(hào) |
1121963 |
公開日 |
1996.05.08 |
主分類號(hào) |
C23C14/40 |
分類號(hào) |
C23C14/40;C01B31/06 |
申請?zhí)?/strong> |
95108952.8 |
分案原申請?zhí)?/strong> |
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申請日 |
1995.07.18 |
頒證日 |
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優(yōu)先權(quán) |
[32]1994.7.18[33]JP[31]165182/94 |
申請人 |
佳能株式會(huì)社 |
地址 |
日本東京 |
發(fā)明人 |
平林敬二; 吉川俊明 |
國際申請 |
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國際公布 |
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進(jìn)入國家日期 |
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專利代理機(jī)構(gòu) |
中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 |
代理人 |
徐汝巽 |
摘要 |
一種通過高頻等離子體CVD方法形成金剛石膜的方法,使用了電感耦合放電,并將高頻波的頻率設(shè)定在40—250MHz之間,由此將含碳的原料氣體分解為等離子體狀態(tài),以在基體上形成金剛石膜?! ? |
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