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形成金剛石膜的方法

關(guān)鍵詞 形成 , 金剛石膜|2010-12-10 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱形成金剛石膜的方法公開號(hào)1121963公開日1996.05.08主分類號(hào)C23C14/40

 

名稱 形成金剛石膜的方法 
公開號(hào) 1121963  公開日 1996.05.08   
主分類號(hào) C23C14/40  分類號(hào) C23C14/40;C01B31/06 
申請?zhí)?/strong> 95108952.8   
分案原申請?zhí)?/strong>   申請日 1995.07.18   
頒證日   優(yōu)先權(quán) [32]1994.7.18[33]JP[31]165182/94 
申請人 佳能株式會(huì)社    地址 日本東京  
發(fā)明人 平林敬二; 吉川俊明    國際申請  
國際公布   進(jìn)入國家日期  
專利代理機(jī)構(gòu) 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所  代理人 徐汝巽   
摘要   一種通過高頻等離子體CVD方法形成金剛石膜的方法,使用了電感耦合放電,并將高頻波的頻率設(shè)定在40—250MHz之間,由此將含碳的原料氣體分解為等離子體狀態(tài),以在基體上形成金剛石膜?! ? 
 

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