金剛石單晶薄膜的制造方法
關(guān)鍵詞 金剛石 , 單晶薄膜|2010-12-10 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱金剛石單晶薄膜的制造方法公開號1096548公開日1994.12.21主分類號C23C16/26
名稱 |
金剛石單晶薄膜的制造方法 |
公開號 |
1096548 |
公開日 |
1994.12.21 |
主分類號 |
C23C16/26 |
分類號 |
C23C16/26;C23C16/56 |
申請?zhí)?/strong> |
93112459.X |
分案原申請?zhí)?/strong> |
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申請日 |
1993.06.17 |
頒證日 |
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優(yōu)先權(quán) |
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申請人 |
上海交通大學 |
地址 |
200030上海市華山路1954號 |
發(fā)明人 |
張志明; 李勝華; 蔡琪玉; 閔乃本 |
國際申請 |
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國際公布 |
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進入國家日期 |
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專利代理機構(gòu) |
上海交通大學專利事務所 |
代理人 |
羅蔭培 |
摘要 |
金剛石單晶薄膜的制造方法,它屬于一種用于半導體材料與器件的金剛石單晶薄膜制造方法。在以氫氣和丙酮為反應氣體,用微波等離子體CVD或熱絲CVD在<111>取向的金剛石襯底上進行同質(zhì)外延過程中,采用在反應氣體中添加適量氧氣和惰性氣體,同時對襯底進行研磨處理的工藝,結(jié)果能得到平整光滑的,結(jié)晶完整性好的<111>取向同質(zhì)外延金剛石單晶薄膜?! ? |
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