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金剛石單晶薄膜的制造方法

關(guān)鍵詞 金剛石 , 單晶薄膜|2010-12-10 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱金剛石單晶薄膜的制造方法公開號1096548公開日1994.12.21主分類號C23C16/26

 

名稱 金剛石單晶薄膜的制造方法 
公開號 1096548    公開日 1994.12.21   
主分類號 C23C16/26  分類號 C23C16/26;C23C16/56 
申請?zhí)?/strong> 93112459.X   
分案原申請?zhí)?/strong>   申請日 1993.06.17   
頒證日   優(yōu)先權(quán)  
申請人 上海交通大學    地址 200030上海市華山路1954號  
發(fā)明人 張志明; 李勝華; 蔡琪玉; 閔乃本    國際申請  
國際公布   進入國家日期  
專利代理機構(gòu) 上海交通大學專利事務所    代理人 羅蔭培   
摘要   金剛石單晶薄膜的制造方法,它屬于一種用于半導體材料與器件的金剛石單晶薄膜制造方法。在以氫氣和丙酮為反應氣體,用微波等離子體CVD或熱絲CVD在<111>取向的金剛石襯底上進行同質(zhì)外延過程中,采用在反應氣體中添加適量氧氣和惰性氣體,同時對襯底進行研磨處理的工藝,結(jié)果能得到平整光滑的,結(jié)晶完整性好的<111>取向同質(zhì)外延金剛石單晶薄膜?! ? 
 

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