申請人:住友電氣工業(yè)株式會社 住友電工硬質(zhì)合金株式會社
發(fā)明人:西林良樹 植田曉彥 小林豐
摘要: 一種單晶金剛石材料,具有對于波長大于或等于410nm且小于或等于750nm的任何波長的光的小于或等于15%的透過率,并且是根據(jù)光學(xué)評估的電絕緣體和根據(jù)電氣評估的電絕緣體中的至少任何一個。光學(xué)評估的準(zhǔn)則可以是波長為10.6μm光的透過率大于或等于1%的。電氣評估的標(biāo)準(zhǔn)可以是平均電阻率大于或等于1×106Ωcm。因此,提供了在可見光區(qū)域的整個區(qū)域中具有低透過率且呈現(xiàn)黑色的單晶金剛石材料。
主權(quán)利要求:1.一種單晶金剛石材料,對于波長大于或等于410nm且小于或等于750nm的任何波長的光,所述單晶金剛石材料的透過率小于或等于15%,所述單晶金剛石材料是根據(jù)光學(xué)評估的電絕緣體和根據(jù)電氣評估的電絕緣體中的至少任何一個。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶金剛石材料,其中,所述光學(xué)評估的準(zhǔn)則是波長為10.6μm的光的透過率大于或等于1%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的單晶金剛石材料,其中,所述電氣評估的準(zhǔn)則是平均電阻率大于或等于1×106Ωcm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項所述的單晶金剛石材料,其中,對于波長大于或等于410nm且小于或等于750nm的任何波長的光,透過率小于或等于3%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的單晶金剛石材料,所述單晶金剛石材料的總氮濃度大于或等于孤立替位氮濃度的8倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的單晶金剛石材料,所述單晶金剛石材料的非替位氮濃度大于或等于0.875ppm,所述非替位氮濃度是通過從總氮濃度減去孤立替位氮濃度來獲得的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的單晶金剛石材料,所述單晶金剛石材料的空位濃度高于孤立替位氮濃度、非替位氮濃度、總氮濃度和1ppm中的至少任一個。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任一項所述的單晶金剛石材料,所述單晶金剛石材料的選自由鎂、鋁、硅、磷和硫組成的組中的至少一種雜質(zhì)元素的總雜質(zhì)元素濃度大于或等于至50ppb。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項所述的單晶金剛石材料,所述單晶金剛石材料的選自由鎂、鋁、硅、磷和硫組成的組中的至少一種雜質(zhì)元素的總雜質(zhì)元素濃度大于或等于所述雜質(zhì)元素的總替位雜質(zhì)元素濃度的8倍。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一項所述的單晶金剛石材料,所述單晶金剛石材料的總硼濃度小于或等于總氮濃度。
11.一種工具,包括根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項所述的單晶金剛石材料。
12.一種輻射溫度監(jiān)測器,包括根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項所述的單晶金剛石材料。
13.一種紅外光學(xué)組件,包括根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項所述的單晶金剛石材料。