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一種以CVD金剛石為基底的遠紅外波段光學薄膜濾光片

關(guān)鍵詞 CVD金剛石|2017-07-12 09:17:42|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 申請?zhí)枺?01710037345.8申請人:中國科學院上海技術(shù)物理研究所發(fā)明人:羅海瀚劉定權(quán)孔園園蔡清元&nbs
       申請?zhí)枺?01710037345.8
       申請人:中國科學院上海技術(shù)物理研究所
       發(fā)明人:羅海瀚 劉定權(quán) 孔園園 蔡清元

       摘要: 本發(fā)明公開了一種以CVD金剛石為基底的遠紅外波段光學薄膜濾光片,該濾光片以碲化鉛(PbTe)和硒化鋅(ZnSe)為高低折射率薄膜材料,在1?2×10?3Pa真空環(huán)境、200±2℃沉積溫度下,采用熱蒸發(fā)沉積方法在CVD金剛石基底兩側(cè)分別沉積多層膜而成;該遠紅外濾光片能夠?qū)崿F(xiàn)對波長小于5微米波段的截止,平均透過率低于1%,在5?45微米波段平均透過率大于71%。本發(fā)明的遠紅外波段光學薄膜濾光片可應(yīng)用于地球輻射探測遠紅外目標識別和深空探測等領(lǐng)域。
       主權(quán)利要求:1.一種以CVD金剛石為基底的遠紅外波段光學薄膜濾光片,其結(jié)構(gòu)為:在基底(2)的一面沉積正面帶通膜系(1),在基底的另一面沉積反面截止膜系(3),其特征在于:所述的正面帶通膜系(1)的膜系結(jié)構(gòu)為:基底/0.27H0.95L0.57H0.78L0.69H0.81L0.58H1.01L0.33H2.15L/空氣其中,H表示一個λ0/4光學厚度的碲化鉛膜層,L表示一個λ0/4光學厚度的硒化鋅膜層,λ0為中心波長,其波長為5微米,H、L前的數(shù)字為λ0/4光學厚度比例系數(shù)乘數(shù);所述的反面截止膜系(3)的膜系結(jié)構(gòu)為:基底/0.34H1.19L0.72H0.98L0.87H1.01L0.73H1.27L0.41H2.69L/空氣其中,H表示一個λ0/4光學厚度的碲化鉛膜層,L表示一個λ0/4光學厚度的硒化鋅膜層,λ0為中心波長,其波長為4微米,H與L前的數(shù)字為λ0/4光學厚度比例系數(shù)。
 

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