申請?zhí)枺?01610556025.9
　　申請人：吉林大學(xué)
　　發(fā)明人：周強 付鑫鵬 李芳菲

　　摘要：本發(fā)明的向金剛石對頂砧轉(zhuǎn)移二維層狀半導(dǎo)體材料的裝置和方法屬于高壓裝置的技術(shù)領(lǐng)域。裝置結(jié)構(gòu)有光學(xué)顯微鏡(9)、樣品臺(4)、三維平移臺(5)、延展臂(6)、豎井(7)和玻璃片(8)。利用本發(fā)明可以將二維層狀半導(dǎo)體材料轉(zhuǎn)移到金剛石對頂砧中，克服了傳統(tǒng)技術(shù)中襯底材料形變影響樣品材料性質(zhì)的弊端，更打破了目前少數(shù)層級二維層狀半導(dǎo)體材料高壓下電學(xué)性能測量中的技術(shù)壁壘。 　　主權(quán)利要求：1.一種向金剛石對頂砧轉(zhuǎn)移二維層狀半導(dǎo)體材料的裝置，其結(jié)構(gòu)有光學(xué)顯微鏡(9)和樣品臺(4)，其特征在于，結(jié)構(gòu)還有三維平移臺(5)、延展臂(6)、豎井(7)和玻璃片(8)，其中延展臂(6)的一端固定在三維平移臺(5)上且能在三維平移臺(5)的帶動下在前后、左右、豎直3個方向自由平移，延展臂(6)的另一端與豎井(7)的頂部固定在一起，豎井(7)垂直放置，其中心有一個由上到下的通孔，豎井的底部粘附玻璃片(8)。
　　2.一種向金剛石對頂砧轉(zhuǎn)移二維層狀半導(dǎo)體材料的方法，其特征在于，利 用權(quán)利要求1所述的向金剛石對頂砧轉(zhuǎn)移二維層狀半導(dǎo)體材料的裝置完成，具體 有以下步驟：第一步，在膠膜襯底上用機械剝離方法制備樣品，所述的膠膜襯底是聚二甲 基硅氧烷膠膜，將膠膜襯底剪成面積1.5cm2的正方形，去掉前后的保護膜，貼 到一個干凈的載玻片上，然后將一塊二維層狀半導(dǎo)體材料放到膠帶中，將膠帶反 復(fù)對折撕開，直至膠帶上均勻分布著一層樣品，將帶有樣品的膠帶覆蓋到膠膜襯 底上，撕下膠帶，在膠膜襯底上留存了二維層狀半導(dǎo)體材料，最后將膠膜襯底放 到光學(xué)顯微鏡(9)下找到樣品，并在膠膜襯底上直接進行光學(xué)手段表征，以確 定目標樣品的層數(shù)；第二步，將帶有目標樣品的膠膜襯底用手術(shù)刀切割成所需的尺寸，從載玻片 上取下，粘貼到豎井(7)底部的玻璃片(8)的下表面上，膠膜襯底不帶樣品的 一面與豎井(7)底部的玻璃片(8)接觸，帶樣品的一面與空氣接觸；第三步，將金剛石對頂砧的上砧(11)和下砧(12)分開，使樣品腔(2) 和金屬墊片(3)依舊停留在上砧(11)中，將下砧(12)放到樣品臺(4)上， 利用光學(xué)顯微鏡(9)找到下砧(12)的砧面，并將擬放置樣品的目標位置移至 光學(xué)顯微鏡(9)的視野中心；第四步，使豎井(7)位于下砧(12)的砧面的上方，且?guī)в心繕藰悠返哪z 膜襯底不與下砧(12)的砧面接觸，調(diào)節(jié)光學(xué)顯微鏡(9)的焦距，使其聚焦在 膠膜襯底上，調(diào)節(jié)三維平移臺(5)，使目標樣品處于視野中心，此時目標樣品與 其擬轉(zhuǎn)移到的目標位置在豎直方向上是對齊的，然后調(diào)節(jié)三維平移臺(5)，使目 標樣品向下，直至下砧(12)的砧面與膠膜襯底之間存在壓力，然后調(diào)節(jié)三維平 移臺(5)，使膠膜襯底與下砧(12)的砧面分離，由于吸附作用，目標樣品被吸 附于下砧(12)的砧面上；第五步，將金剛石對頂砧的樣品腔(2)中充上傳壓介質(zhì)，并將金剛石對頂 砧的下砧(12)與上砧(11)復(fù)位；所述的金剛石對頂砧是活塞圓筒型金剛石對頂砧。