ADLC

無(wú)定形金剛石硬質(zhì)合金材料含有大量的SP3 而且具有所需的金剛石和石墨的優(yōu)良性能。批次一個(gè)批次指能在同一爐，同一時(shí)間進(jìn)行涂層的零件組陰極陰極是一個(gè)PVD 語(yǔ)術(shù)，通常指陰極源或靶材，更嚴(yán)格地說(shuō)指陰極，是靶材安裝的極板，并在涂層工序中發(fā)生氣化。

CVA

鋁化化學(xué)氣相沉積過(guò)程擴(kuò)散鋁合金到部件表面，提高抗高溫能力，防腐和抗氧化性能。

CVD

化學(xué)氣相沉積過(guò)程是由反應(yīng)氣體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行涂層沉積，在標(biāo)準(zhǔn)的CVD 情況下，該反應(yīng)在800 — 1050 ℃的高溫下進(jìn)行。工藝時(shí)間涂層時(shí)間是一個(gè)完整的過(guò)程，從一批次裝載到涂層、冷卻和卸載。

微米

微米是百萬(wàn)分之一米

PACVD

離子活化CVD 或離子加強(qiáng)CVD ，這是CVD 的低溫（低于200 ℃）的加工過(guò)程，在PACVD 情況下，通過(guò)RF 電源進(jìn)行氣體反應(yīng)。

PECVD

離子加強(qiáng)CVD

PVD

物理氣相沉積是在涂層設(shè)備爐膛，通過(guò)靶材的氣化沉積涂層的物理過(guò)程。源源是PVD 語(yǔ)術(shù)，它是一種裝置，用來(lái)裝夾靶材，同時(shí)包括觸發(fā)器，磁體，殼體和冷卻系統(tǒng)，源有時(shí)指陰極。

sp2

硬質(zhì)合金原子類(lèi)似于石墨

sp3

硬質(zhì)合金原子類(lèi)似于天然金剛石

基體

涂層是的基體材料

靶材

target 是PVD 語(yǔ)術(shù)，指被氣化的金屬材料，靶材與源一起通常范指陰極或源。