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官方微信摘要 名稱微波法低溫沉積細晶粒金剛石薄膜公開號1066299公開日1992.11.18主分類號C23C16/26&n
| 名稱 | 微波法低溫沉積細晶粒金剛石薄膜 | ||
| 公開號 | 1066299 | 公開日 | 1992.11.18 |
| 主分類號 | C23C16/26 | 分類號 | C23C16/26;C23C16/48 |
| 申請?zhí)?/strong> | 91102584.7 | ||
| 分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 1991.04.28 | |
| 頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | ||
| 申請人 | 北京科技大學(xué) | 地址 | 100083北京市學(xué)院路30號 |
| 發(fā)明人 | 楊保雄; 呂反修; 蔣高松; 葉銳曾 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構(gòu) | 北京科技大學(xué)專利代理事務(wù)所 | 代理人 | 劉月娥 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種用化學(xué)氣相沉積工藝沉積可用于光學(xué)及電學(xué)領(lǐng)域的金剛石薄膜技術(shù)。其特征在于工作氣體中含有０．１—１０％的高純氧氣，０．１— １０％的高純甲烷，剩余為高純氫氣，工作氣體的壓力為１—１００τ，在金剛石膜沉積過程中微波功率為１００—５００瓦。本發(fā)明的優(yōu)點在于工藝簡單、重復(fù)性強，突破了金剛石薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域，可用于光學(xué)、電學(xué)領(lǐng)域。 | ||
豫公網(wǎng)安備41019702003646號