申請(qǐng)?zhí)枺?01480043171.0
　　申請(qǐng)人：圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司
　　發(fā)明人：Z·科斯蒂奇 W·麥加 A·G·海爾勒 N·J·圖瑪維奇 B·C·謝弗

　　摘要：本發(fā)明提供了一種均勻地涂覆小研磨顆粒的方法，具體而言用鎳涂覆≤10μm的金剛石顆粒的方法，并且提供了一種含所述經(jīng)涂覆研磨顆粒的研磨制品，例如固結(jié)金剛石線。所述方法包括向鍍?cè)∈┘映暷懿⒄{(diào)節(jié)超聲能的功率使得研磨顆粒批料的非團(tuán)聚系數(shù)(NAF)為至少約0.90，非團(tuán)聚系數(shù)定義為比率(D50sa/D50b)，其中D50b表示經(jīng)涂覆研磨顆粒的中值粒度而D50sa表示涂覆前研磨顆粒的中值粒度。

　　主權(quán)利要求：1.一種用于形成經(jīng)涂覆研磨顆粒批料的方法，所述方法包括-提供研磨顆粒在浴中的分散體，其中所述研磨顆粒的平均粒度≤10μm；-在所述浴中用涂覆材料涂覆所述研磨顆粒；-向所述浴施加超聲能并調(diào)節(jié)所述超聲能的功率以形成非團(tuán)聚系數(shù)(NAF)為至少約0.90的經(jīng)涂覆研磨顆粒批料，所述非團(tuán)聚系數(shù)定義為比率(D50sa/D50b)，其中D50b表示所述經(jīng)涂覆研磨顆粒批料的中值粒度而D50sa表示涂覆前所述研磨顆粒的中值粒度。
　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述研磨顆粒包含選自金剛石、立方氮化硼、碳化硅、碳化硼、氧化鋁、氮化硅、碳化鎢、氧化鋯或它們的組合的材料。
　　3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述研磨顆粒為金剛石顆粒。
　　4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其中所述涂層包含選自鎳、鈦、銅、鋅、鉻、青銅以及它們的組合的材料。
　　5.一種制造研磨制品的方法，所述方法包括提供基材并將經(jīng)涂覆研磨顆粒批料附接到所述基材，其中所述研磨顆粒批料具有至少約0.9的非團(tuán)聚系數(shù)(NAF)，所述非團(tuán)聚系數(shù)定義為比率(D50sa/D50b)，其中D50b表示所述經(jīng)涂覆研磨顆粒批料的中值粒度而D50sa表示涂覆前所述研磨顆粒的中值粒度。
　　6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造研磨制品的方法，其中所述基材選自盤、線、環(huán)帶、磨石、錐體以及它們的組合。
　　7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造研磨制品的方法，其中所述研磨顆粒為涂鎳金剛石顆粒。
　　8.經(jīng)涂覆研磨顆粒批料，所述經(jīng)涂覆研磨顆粒批料的平均粒度≤10μm并且非團(tuán)聚系數(shù)(NAF)為至少0.90，所述非團(tuán)聚系數(shù)定義為比率 (D50sa/D50b)，其中D50b表示所述經(jīng)涂覆研磨顆粒批料的中值粒度而D50sa表示涂覆前所述研磨顆粒的中值粒度。
　　9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的經(jīng)涂覆研磨顆粒批料，其中所述研磨顆粒的材料選自金剛石、立方氮化硼、碳化硅、碳化硼、氧化鋁、氮化硅、碳化鎢、氧化鋯或它們的任何組合。
　　10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的經(jīng)涂覆研磨顆粒批料，其中所述研磨顆粒的涂層包含鎳、鈦、銅、鋅、鉻、青銅或它們的組合。
　　11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的經(jīng)涂覆研磨顆粒批料，其中所述研磨顆粒包含金剛石顆粒并且所述涂層包含鎳。
　　12.根據(jù)權(quán)利要求8、9或10所述的經(jīng)涂覆研磨顆粒批料，其中所述研磨顆粒的平均粒度為至少約1μm并且不大于7μm。
　　13.根據(jù)權(quán)利要求8、9或10所述的經(jīng)涂覆研磨顆粒批料，其中所述涂層的厚度為約1nm至約500nm。
　　14.一種研磨制品，所述研磨制品包含根據(jù)權(quán)利要求8、9或10所述的研磨顆粒批料。
　　15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的研磨制品，其中所述研磨制品為固結(jié)研磨線。