申請人:鄭州大學(xué)
發(fā)明人:王海龍 席耀輝 張銳 李劍 胡碧涌 盧緒高 李得源 邵剛 范冰冰 陳德良 許紅亮 盧紅霞
摘要:本發(fā)明公開了一種TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)合光電催化電極、制備方法及應(yīng)用,屬于材料化學(xué)、環(huán)境電化學(xué)、污染物控制技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明首先通過微波等離子體化學(xué)氣相沉積法在硅襯底上沉積一層具有良好電化學(xué)性能的摻硼金剛石薄膜,再通過水熱法在摻硼金剛石薄膜的表面生長具有光催化性能的TiO2納米束,最終形成具有p-n結(jié)結(jié)構(gòu)的復(fù)合光電催化電極。相比于摻硼金剛石薄膜裸電極,該復(fù)合光電催化電極增加TiO2納米束修飾形成了p-n結(jié)結(jié)構(gòu),使得光電轉(zhuǎn)換效率增加,廢水中有機(jī)染料的降解時(shí)間有效縮短;相比于TiO2納米薄膜修飾,該電極具有更多的活性位點(diǎn),能增大電極與染料的接觸面積,提高降解效率。
主權(quán)利要求:1.TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)合光電催化電極,其特征在于:該電極為p-n結(jié)結(jié)構(gòu),在硅襯底上化學(xué)氣相沉積有摻硼金剛石薄膜,在薄膜表面水熱法沉積有TiO2納米束。
2.如權(quán)利要求1所述復(fù)合光電催化電極的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:1)以硅襯底為基片,乙硼烷為硼源,在甲烷、氫氣氣氛中化學(xué)氣相沉積得到摻硼金剛石薄膜;2)將沉積有摻硼金剛石薄膜的基片置于反應(yīng)液中,在薄膜表面水熱法沉積TiO2納米束;所述反應(yīng)液為鈦酸丁酯、濃鹽酸與水的混合液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中硅襯底在使用前先置于含有金剛石粉末的懸濁液中超聲處理0.5~1.5h。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中甲烷、氫氣、乙硼烷/氫氣混合氣三者的流量比40~50sccm:1050~1250sccm:20~200sccm,乙硼烷/氫氣混合氣中乙硼烷在氫氣中的濃度為100~500ppm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中化學(xué)氣相沉積的工藝參數(shù)為:微波功率10~18Kw,硅襯底溫度800~900℃,反應(yīng)氣壓110~130mbar,時(shí)間1.5~6h。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于:步驟2)中鈦酸丁酯、濃鹽酸、水的體積比為0.5~1:15~30:15~30。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或6所述的制備方法,其特征在于:步驟2)中水熱法沉積的工藝參數(shù)為:溫度150~170℃,反應(yīng)時(shí)間15~20h。
8.如權(quán)利要求1所述TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)合光電催化電極在有機(jī)廢水處理中的應(yīng)用。