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鄭州大學(xué):TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)合光電催化電極、制備方法及應(yīng)用

關(guān)鍵詞 鄭州大學(xué) , 摻硼金剛石 , 薄膜 , 光電催化電極|2016-03-23 09:08:45|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 申請?zhí)枺?01510754801.1申請人:鄭州大學(xué)發(fā)明人:王海龍席耀輝張銳李劍胡碧涌盧緒高李得源邵剛范冰冰陳德良許紅亮盧紅霞摘要:本發(fā)明公開了一種TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)...
  申請?zhí)枺?01510754801.1
  申請人:鄭州大學(xué)
  發(fā)明人:王海龍 席耀輝 張銳 李劍 胡碧涌 盧緒高 李得源 邵剛 范冰冰 陳德良 許紅亮 盧紅霞

  摘要:本發(fā)明公開了一種TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)合光電催化電極、制備方法及應(yīng)用,屬于材料化學(xué)、環(huán)境電化學(xué)、污染物控制技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明首先通過微波等離子體化學(xué)氣相沉積法在硅襯底上沉積一層具有良好電化學(xué)性能的摻硼金剛石薄膜,再通過水熱法在摻硼金剛石薄膜的表面生長具有光催化性能的TiO2納米束,最終形成具有p-n結(jié)結(jié)構(gòu)的復(fù)合光電催化電極。相比于摻硼金剛石薄膜裸電極,該復(fù)合光電催化電極增加TiO2納米束修飾形成了p-n結(jié)結(jié)構(gòu),使得光電轉(zhuǎn)換效率增加,廢水中有機(jī)染料的降解時(shí)間有效縮短;相比于TiO2納米薄膜修飾,該電極具有更多的活性位點(diǎn),能增大電極與染料的接觸面積,提高降解效率。

  主權(quán)利要求:1.TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)合光電催化電極,其特征在于:該電極為p-n結(jié)結(jié)構(gòu),在硅襯底上化學(xué)氣相沉積有摻硼金剛石薄膜,在薄膜表面水熱法沉積有TiO2納米束。
  2.如權(quán)利要求1所述復(fù)合光電催化電極的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:1)以硅襯底為基片,乙硼烷為硼源,在甲烷、氫氣氣氛中化學(xué)氣相沉積得到摻硼金剛石薄膜;2)將沉積有摻硼金剛石薄膜的基片置于反應(yīng)液中,在薄膜表面水熱法沉積TiO2納米束;所述反應(yīng)液為鈦酸丁酯、濃鹽酸與水的混合液。
  3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中硅襯底在使用前先置于含有金剛石粉末的懸濁液中超聲處理0.5~1.5h。
  4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中甲烷、氫氣、乙硼烷/氫氣混合氣三者的流量比40~50sccm:1050~1250sccm:20~200sccm,乙硼烷/氫氣混合氣中乙硼烷在氫氣中的濃度為100~500ppm。
  5.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中化學(xué)氣相沉積的工藝參數(shù)為:微波功率10~18Kw,硅襯底溫度800~900℃,反應(yīng)氣壓110~130mbar,時(shí)間1.5~6h。
  6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于:步驟2)中鈦酸丁酯、濃鹽酸、水的體積比為0.5~1:15~30:15~30。
  7.根據(jù)權(quán)利要求2或6所述的制備方法,其特征在于:步驟2)中水熱法沉積的工藝參數(shù)為:溫度150~170℃,反應(yīng)時(shí)間15~20h。
  8.如權(quán)利要求1所述TiO2納米束/摻硼金剛石薄膜復(fù)合光電催化電極在有機(jī)廢水處理中的應(yīng)用。
 

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