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用于加工超硬陶瓷的金剛石研磨墊及其制備方法

關(guān)鍵詞 超硬陶瓷 , 金剛石研磨墊|2015-07-31 08:49:23|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 摘要:本發(fā)明提供一種用于加工超硬陶瓷的金剛石研磨墊,所述研磨墊包括金剛石料層,所述金剛石料層包括方形磨塊層和平鋪層,且所述金剛石料層由以下原料按質(zhì)量百分比制成,樹脂粘結(jié)劑:25%~...
  申請?zhí)枺?01510188055.4
       申請人:藍(lán)思科技(長沙)有限公司
       發(fā)明人:周群飛 饒橋兵 康萌

       摘要:本發(fā)明提供一種用于加工超硬陶瓷金剛石研磨墊,所述研磨墊包括金剛石料層,所述金剛石料層包括方形磨塊層和平鋪層,且所述金剛石料層由以下原料按質(zhì)量百分比制成,樹脂粘結(jié)劑:25%~50%,金剛石:5%-20%,二硫化鉬:1%-10%,硅灰石:20%-50%,氣相二氧化硅:0.5%-5%。本發(fā)明提供的金剛石研磨墊在磨削力、磨削力的穩(wěn)定性、切削力和研磨墊的使用壽命方面的性能均明顯優(yōu)于3M公司的45MIC研磨墊的性能。
       主權(quán)利要求:1.一種用于加工超硬陶瓷的金剛石研磨墊,所述研磨墊包括金剛石料層(1),所述金剛石料層(1)包括方形磨塊層(11)和平鋪層(12),且所述金剛石料層由以下原料按質(zhì)量百分比制成,樹脂粘結(jié)劑:25%~50%,金剛石:5%-20%,二硫化鉬:1%-10%,硅灰石:20%-50%,氣相二氧化硅:0.5%-5%。
       2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金剛石研磨墊,其特征在于,所述研磨墊的一側(cè)至另一側(cè) 依次包括:方形磨塊層(11)、平鋪層(12)、無紡布層(2)、PET膜層(4)、雙面附膠的 PC板層(5)。 
       3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金剛石研磨墊,其特征在于,所述無紡布層(2)和PET膜 層(4)之間還含有粘結(jié)劑層(3)。 
       4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金剛石研磨墊,其特征在于,所述粘結(jié)劑層(3)中粘結(jié)劑 的原料組成為:納米氧化鋁15~30%、環(huán)氧類樹脂35~50%、酸酐類固化劑30~35%、促進(jìn) 劑0.5~1%。 
       5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任意一項(xiàng)所述的金剛石研磨墊,其特征在于,所述樹脂粘結(jié) 劑的重量組成為:環(huán)氧類樹脂45~59%、酸酐類固化劑40~54%、促進(jìn)劑0.5~1%。 
       6.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任意一項(xiàng)所述的金剛石研磨墊,其特征在于,所述金剛石平 均粒徑為50-120μm,所述硅灰石平均粒徑為30-50μm,所述二硫化鉬平均粒徑為20-40μm, 所述氣相二氧化硅平均粒徑為100-300nm。 
       7.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任意一項(xiàng)所述的金剛石研磨墊,其特征在于,所述方形磨塊 層(11)為由n個(gè)結(jié)構(gòu)相同且縱橫間等間距排列的方形磨塊構(gòu)成的外徑為500-1500mm、 內(nèi)徑為200-500mm的圓環(huán)形結(jié)構(gòu),其中n為大于100的自然數(shù)。 
       8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金剛石研磨墊,其特征在于,所述方形磨塊的長和寬為 1.5-2.5mm,高度為0.5-1.0mm,所述方形磨塊縱橫間間距為1.5-2.0mm。 
       9.一種如權(quán)利要求1~8中任意一項(xiàng)所述的金剛石研磨墊的制備方法,包括如下步驟: 步驟一,混料:將制備所述金剛石料層的原料混合均勻后填充到模具中,然后將模具 中填充好的金剛石料層原料表面攤平; 步驟二,真空除泡:對填充在模具中的金剛石料層進(jìn)行真空除泡處理,并再次對金剛 石料層表面攤平得到所述方形磨塊層和平鋪層的原型; 步驟三,預(yù)固化成型:將無紡布層的上表面與攤平后的平鋪層表面粘合,使無紡布和 金剛石料層完全滲透,再置于固化爐中進(jìn)行預(yù)固化處理;預(yù)固化溫度為70-100℃,預(yù)固化 時(shí)間為0.5~10h; 步驟四,貼PET膜:將預(yù)固化后的無紡布表面均勻地刷涂一層粘結(jié)劑并粘貼PET膜; 步驟五,熱壓固化成型:將貼好的PET膜移至固化爐中進(jìn)行熱壓固化; 步驟六,貼PC板:在得到的研磨墊PET膜層上貼上雙面附膠的PC板,用滾筒壓緊; 步驟七,裁剪成型。 
       10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,其特征在于,所述真空除泡處理的真空值為 -90~-100KPa,真空除泡處理時(shí)間為60-80min。
 

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