申請(qǐng)?zhí)枺?01310256654

　　申請(qǐng)人：南京航空航天大學(xué)廣東工業(yè)大學(xué)廣東奔朗新材料股份有限公司

　　摘要：本發(fā)明公開(kāi)了一種表面沉積有WC/W復(fù)合涂層的金剛石顆粒的制備方法。通過(guò)雙陰極等離子濺射沉積方法實(shí)現(xiàn)了一次處理，在金剛石顆粒表面合成WC/W納米復(fù)合涂層，涂層中WC是雙陰極等離子濺射沉積過(guò)程中W與金剛石顆粒表面發(fā)生界面原位反應(yīng)形成。本發(fā)明明顯改善了金剛石顆粒與金屬粘結(jié)劑間的結(jié)合強(qiáng)度和把持力以及金剛石顆粒的抗壓強(qiáng)度。此外，沉積在金剛石表面的WC/W納米復(fù)合涂層對(duì)金剛石顆粒具有保護(hù)作用，避免金剛石在高溫?zé)Y(jié)和高溫磨削過(guò)程中發(fā)生氧化和石墨化。本發(fā)明的WC/W納米復(fù)合涂層主要適用于制造以W-Co類硬質(zhì)合金為基的金剛石工具，金剛石獲得較高的出刃，提高磨具的磨削鋒利度和加工效率，明顯延長(zhǎng)磨具的使用壽命。

　　獨(dú)立權(quán)利要求：1.一種表面沉積有WC/W復(fù)合涂層的金剛石顆粒的制備方法，其特征在于，由以下步驟進(jìn)行：利用雙陰極等離子濺射沉積法在金剛石顆粒表面形成金屬涂層，使用濺射的靶材材料為W，其中金屬涂層外層為W層，內(nèi)層為WC層。

　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面沉積有WC/W復(fù)合涂層的金剛石顆粒的制備方法，其特征在于，所述的濺射沉積法的工藝參數(shù)是：靶材電壓820-1000 V，電流3.5-5.5A，料盤電壓360-450 V，靶材與料盤間距為12-18 mm，工作氣體為氬氣，氣壓為32-42Pa，料盤溫度600℃，沉積時(shí)間為2-3小時(shí)。

　　3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面沉積有WC/W復(fù)合涂層的金剛石顆粒的制備方法，其特征在于，在進(jìn)行濺射沉積之前，分別使用質(zhì)量百分比為10%的NaOH溶液和5%的HNO3溶液對(duì)金剛石進(jìn)行煮沸、漂洗。

　　4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面沉積有WC/W復(fù)合涂層的金剛石顆粒的制備方法，其特征在于，復(fù)合涂層W層呈柱狀晶結(jié)構(gòu)，WC層為等軸狀的晶粒結(jié)構(gòu)。

　　5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面沉積有WC/W復(fù)合涂層的金剛石顆粒的制備方法，其特征在于， WC層的晶粒尺寸是 30-50nm ，W層晶粒的尺寸是 70-200nm ；WC層和W層的總厚度為0.2-1μm。

　　6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的表面沉積有WC/W復(fù)合涂層的金剛石顆粒在W-Co類硬質(zhì)合金為基的金剛石工具中的應(yīng)用。