多元摻雜熱絲化學(xué)氣相沉積制備金剛石薄膜的方法
關(guān)鍵詞 金剛石 , 薄膜 , 化學(xué)氣相沉積|2012-08-03 11:26:01|行業(yè)專利|來(lái)源 中國(guó)超硬材料網(wǎng)
摘要 專利號(hào):201210085095申請(qǐng)人:上海交通大學(xué);上海交友鉆石涂層有限公司技術(shù)簡(jiǎn)要說(shuō)明:本發(fā)明公開了一種多元摻雜熱絲化學(xué)氣相沉積制備金剛石薄膜的方法
專利號(hào):201210085095
申請(qǐng)人:上海交通大學(xué);上海交友鉆石涂層有限公司
技術(shù)簡(jiǎn)要說(shuō)明:本發(fā)明公開了一種多元摻雜熱絲化學(xué)氣相沉積制備金剛石薄膜的方法及用于其中的反應(yīng)氣體輸送裝置。所述方法以硅、碳化硅或氮化硅陶瓷、硬質(zhì)合金、以及高熔點(diǎn)金屬材料(鎢、鉭、鉬、鈦等)為襯底,以CVD法為沉積手段,在反應(yīng)氣體氫氣和丙酮(或丙酮和甲醇)蒸汽中同時(shí)添加含Si、含Si和含N、含Si和含B或含Si、含N和含B的有機(jī)化合物,形成多元摻雜體系;反應(yīng)得到了亞微米或納米級(jí)金剛石薄膜涂層,涂層厚度可在10~50μm之間調(diào)節(jié)。該薄膜具有耐磨、耐腐蝕、絕緣電阻高(不摻硼場(chǎng)合)、表面光滑、摩擦系數(shù)小、易研磨拋光等特點(diǎn),即兼有微米金剛石和納米金剛石涂層的雙重優(yōu)點(diǎn)。
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