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碳化硅襯底上具有導(dǎo)電緩沖中間層結(jié)構(gòu)的Ⅲ族氮化物光子器件

關(guān)鍵詞 碳化硅襯底 |2010-12-23 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱碳化硅襯底上具有導(dǎo)電緩沖中間層結(jié)構(gòu)的Ⅲ族氮化物光子器件公開號(hào)1278949公開日2001.01.03主分類號(hào)H0

 

名稱 碳化硅襯底上具有導(dǎo)電緩沖中間層結(jié)構(gòu)的Ⅲ族氮化物光子器件 
公開號(hào) 1278949  公開日 2001.01.03   
主分類號(hào) H01L33/00  分類號(hào) H01L33/00 
申請?zhí)?/strong> 98811065.2 
分案原申請?zhí)?/strong>   申請日 1998.10.06   
頒證日   優(yōu)先權(quán) 1997.10.7 US 08/944,547 
申請人 克里公司  地址 美國北卡羅萊納 
發(fā)明人 J·A·艾德蒙得;孔華雙;K·M·多弗斯派克;M·T·萊昂?  國際申請 PCT.US98/21160 1998.10.6 
國際公布 WO99.18617 英 1999.4.15  進(jìn)入國家日期 2000.05.11  
專利代理機(jī)構(gòu) 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所  代理人 段承恩   
摘要   這里公開了一種具有Ⅲ族氮化物有源層的光電子器件,該器件包括:碳化硅襯底;具有Ⅲ族氮化物有源層的光電子二極管;選自由氮化鎵和銦鎵氮構(gòu)成的組中的緩沖結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)位于所說碳化硅襯底和所說光電子二極管間;及應(yīng)力吸收結(jié)構(gòu),包括在所說緩沖結(jié)構(gòu)的晶體結(jié)構(gòu)內(nèi)的多個(gè)預(yù)定應(yīng)力釋放區(qū),以便所說緩沖結(jié)構(gòu)中產(chǎn)生的應(yīng)力誘發(fā)開裂,發(fā)生在所說緩沖層內(nèi)的預(yù)定區(qū)域,而非其它區(qū)域。 
 

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