名稱(chēng) | 制備用PVD法涂覆Al#-[2]O#-[3]的切削刀具的方法 | ||
公開(kāi)號(hào) | 1304458 | 公開(kāi)日 | 2001.07.18 |
主分類(lèi)號(hào) | C23C14/08 | 分類(lèi)號(hào) | C23C14/08 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 00800790.X | ||
分案原申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 申請(qǐng)日 | 2000.05.03 | |
頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | 1999.5.6 SE 9901650-3 | |
申請(qǐng)人 | 桑德維克公司 | 地址 | 瑞典桑德維肯 |
發(fā)明人 | 西格弗里德·席勒;克勞斯·格迪克;弗雷德·菲茨克;奧? | 國(guó)際申請(qǐng) | |
國(guó)際公布 | 進(jìn)入國(guó)家日期 | ||
專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu) | 永新專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 過(guò)曉東 |
摘要 | 本發(fā)明涉及一種制備由涂層和基體組成的涂覆切削刀具的方法,其中,用反應(yīng)性磁控濺射法在運(yùn)動(dòng)的基體上于真空中沉積至少一層難熔的 γ—Al#-[2]O#-[3]微晶層,脈沖磁控濺射是在稀有氣體和反應(yīng)性氣體的混合物中進(jìn)行的,脈沖頻率設(shè)定為10—100 kHz;沉積的速率相對(duì)于靜態(tài)放置的基體至少為1nm/s;按時(shí)間平均的磁控靶功率密度設(shè)定為至少10 W/cm#+[2];基體溫度設(shè)定在400—700℃的范圍內(nèi),這取決于要進(jìn)行涂覆的工具本體的材料;而且撞擊每個(gè)基體的粒子流循環(huán)性地中斷。 |