電沉積金-碳化硅復(fù)合鍍層
關(guān)鍵詞 電沉積金 , -碳化硅 , 復(fù)合鍍層 |2010-12-21 00:00:00|行業(yè)專利|來(lái)源 中國(guó)超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱電沉積金-碳化硅復(fù)合鍍層公開號(hào)85100021公開日1986.01.10主分類號(hào)C25D15/00
名稱 |
電沉積金-碳化硅復(fù)合鍍層 |
公開號(hào) |
85100021 |
公開日 |
1986.01.10 |
主分類號(hào) |
C25D15/00 |
分類號(hào) |
C25D15/00;C25D3/48;H01H1/02 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong> |
85100021 |
分案原申請(qǐng)?zhí)?/strong> |
|
申請(qǐng)日 |
1985.04.01 |
頒證日 |
|
優(yōu)先權(quán) |
|
申請(qǐng)人 |
天津大學(xué) |
地址 |
天津市南開區(qū)七里臺(tái) |
發(fā)明人 |
郭鶴桐; 王兆勇; 邱訓(xùn)高 |
國(guó)際申請(qǐng) |
|
國(guó)際公布 |
|
進(jìn)入國(guó)家日期 |
|
專利代理機(jī)構(gòu) |
天津大學(xué)專利代理事務(wù)所 |
代理人 |
張宏祥; 曲遠(yuǎn)方 |
摘要 |
一種用于繼電器觸點(diǎn)的抗電侵蝕的耐磨復(fù)合鍍層,是用電鍍方法沉積在銅合金或其他金屬基體上.復(fù)合鍍層中彌散有占鍍層體積0.1-10%,粒徑小于0.5微米的SiC 微粒.這種金基復(fù)合鍍層具有比純金高的顯微硬度,低的摩擦系數(shù),接觸電阻略大于金,但低于金合金,并且耐電侵蝕性、抗腐蝕及抗變色能力強(qiáng).這種Au-SiC復(fù)合鍍層可在含有SiC微粒的,氰化物的、酸性的及亞硫酸鹽的鍍金溶液中獲得. |
① 凡本網(wǎng)注明"來(lái)源:超硬材料網(wǎng)"的所有作品,均為河南遠(yuǎn)發(fā)信息技術(shù)有限公司合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明"來(lái)源:超硬材料網(wǎng)"。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
② 凡本網(wǎng)注明"來(lái)源:XXX(非超硬材料網(wǎng))"的作品,均轉(zhuǎn)載自其它媒體,轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)。
③ 如因作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題需要同本網(wǎng)聯(lián)系的,請(qǐng)?jiān)?0日內(nèi)進(jìn)行。
※ 聯(lián)系電話:0371-67667020