申請(qǐng)?zhí)? 201720410287.4    

申請(qǐng)日: 2017.04.19

申請(qǐng)人: 惠州市戴爾蒙德科技有限公司

發(fā)明人: 唐杰; 單元磊; 羅俊旋; 黃強(qiáng)元; 董朝新

       摘要： 

       本實(shí)用新型涉及化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備。本實(shí)用新型的熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造成本低廉，加快企業(yè)的生產(chǎn)效率，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本；并且，生成的金剛石涂層牢固，生成金剛石涂層快速，在刀具使用過程中，金剛石涂層不易脫落，生產(chǎn)的刀具質(zhì)量一致性好。

       主權(quán)利要求:

       一種熱絲CVD金剛石涂層設(shè)備,其特征在于，包括：第一機(jī)殼；內(nèi)置于所述第一機(jī)殼的第二機(jī)殼，所述第二機(jī)殼與所述第一機(jī)殼的頂部相連接，所述第二機(jī)殼與所述第一機(jī)殼之間形成冷卻空間；設(shè)置于所述第一機(jī)殼及第二機(jī)殼頂部的第三機(jī)殼，所述第一機(jī)殼、第二機(jī)殼及第三機(jī)殼形成一密封的反應(yīng)腔室，所述第三機(jī)殼具有至少一反應(yīng)氣體入口，所述至少一反應(yīng)氣體入口連通所述反應(yīng)腔室；設(shè)置于所述反應(yīng)腔室的水冷基臺(tái)，所述水冷基臺(tái)包括：第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)，所述第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)的頂部相連接，所述第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)間具有一夾角A；設(shè)置于所述反應(yīng)腔室的發(fā)熱裝置，所述發(fā)熱裝置位于所述水冷基臺(tái)的上方，所述發(fā)熱裝置包括：兩組接線柱、發(fā)熱絲組及連接機(jī)構(gòu)，所述兩組接線柱設(shè)置于所述反應(yīng)腔室，并分別位于所述水冷基臺(tái)的兩側(cè)，所述兩組接線柱分別連接直流電源的正極及負(fù)極，所述發(fā)熱絲組的兩端分別連接所述兩組接線柱，所述連接機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述反應(yīng)腔室，并位于所述兩組接線柱間，所述連接機(jī)構(gòu)分隔所述發(fā)熱絲組成第一部分及第二部分，所述第一部分及第二部分分別平行所述第一工作平臺(tái)及第二工作平臺(tái)；以及位于所述第一機(jī)殼一側(cè)的冷水機(jī)，所述冷水機(jī)的進(jìn)口分別連接所述冷卻空間及水冷基臺(tái)，所述冷水機(jī)的出口分別連接所述冷卻空間及水冷基臺(tái)。