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一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法

關(guān)鍵詞 電磁場霧化 , 金剛石 , 磨粒均勻噴射|2017-03-03 09:02:11|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 申請?zhí)枺?01610950701.0申請人:湖南大學(xué)發(fā)明人:陳逢軍張磊尹韶輝梁火昌摘要:本發(fā)明屬于靜電霧化及磁場輔助控制技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法。...
  申請?zhí)枺?01610950701.0
  申請人:湖南大學(xué)
  發(fā)明人:陳逢軍 張磊 尹韶輝 梁火昌

  摘要: 本發(fā)明屬于靜電霧化及磁場輔助控制技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種電磁場霧化金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法。裝置主要包括工作臺(tái)、支撐柱、圓柱形永磁體、接收板、金剛石磨粒、電極環(huán)、環(huán)形永磁體、固定塊、緊固螺釘、噴嘴體、噴嘴頂蓋、接口、針電極、絕緣套、輸液導(dǎo)管Ⅰ、計(jì)量泵、輸液導(dǎo)管Ⅱ、攪拌器、儲(chǔ)液箱、高壓靜電發(fā)生器、電極環(huán)支撐桿。該裝置利用兩個(gè)相對(duì)放置的永磁體及一對(duì)噴霧電極,在金剛石磨粒噴射區(qū)域內(nèi)形成穩(wěn)定強(qiáng)度的電場和梯度磁場,金剛石磨粒液滴向接收板噴射過程中按場線排布的方向運(yùn)動(dòng),可以減小液滴的漂移和增大噴射的霧化角,從而使金剛石磨粒分布均勻。由此制備的磨粒均勻分布的砂輪具有加工的表面質(zhì)量高、磨削效率高等優(yōu)點(diǎn)。
  主權(quán)利要求:1.一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,裝置包括工作臺(tái)、支撐柱、接收板、金剛石磨粒、固定塊、緊固螺釘、噴嘴體、噴嘴頂蓋、接口、絕緣套、輸液導(dǎo)管Ⅰ、計(jì)量泵、輸液導(dǎo)管Ⅱ、攪拌器、儲(chǔ)液箱、高壓靜電發(fā)生器、電極環(huán)支撐桿,其特征是加入了針電極、電極環(huán)、圓柱形永磁體、環(huán)形永磁體;所述一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于,包括一種如下步驟:(1)將含有所述金剛石磨粒的液體存儲(chǔ)在所述儲(chǔ)液箱中,啟動(dòng)所述攪拌器,攪拌時(shí)間10~60分鐘,直至液體呈懸浮液狀態(tài)。(2)啟動(dòng)所述計(jì)量泵,通過所述輸液導(dǎo)管Ⅱ?qū)⒑兴鼋饎偸チ5囊后w吸入。(3)經(jīng)過所述輸液導(dǎo)管Ⅰ將含有所述金剛石磨粒的液體輸送到所述噴嘴體中。(4)在所述計(jì)量泵0.1~0.4MPA的壓力及5~15KV的負(fù)高壓作用下,含有所述金剛石磨粒的液體由所述噴嘴體出口噴出,向所述接收板運(yùn)動(dòng)。(5)同時(shí),在所述環(huán)形永磁體及所述圓柱形永磁體之間產(chǎn)生的穩(wěn)定梯度磁場作用下,所述金剛石磨粒沿著磁力線的方向迅速分散排布,在所述接收板上呈均勻分布。
  2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于:所述儲(chǔ)液箱中含有金剛石磨粒與油脂及乳化劑的混合液體。所述計(jì)量泵的吸入端通過所述輸液導(dǎo)管Ⅱ與所述儲(chǔ)液箱相連,所述計(jì)量泵的輸出端通過所述輸液導(dǎo)管Ⅰ與所述噴嘴頂蓋相連。所述輸液導(dǎo)管Ⅰ與所述噴嘴頂蓋是通過所述接口相連的。所述針電極通過所述噴嘴頂蓋插入到含有金剛石磨粒的液體中,其外側(cè)被所述絕緣套包裹,只露出針尖部分。所述環(huán)形永磁體通過所述固定塊安裝在所述噴嘴體下端。所述固定塊通過圓周上均布的四個(gè)緊固螺釘連接在所述噴嘴體上。所述電極環(huán)通過所述電極環(huán)支撐桿固定在所述工作臺(tái)上。所述接收板通過所述支撐柱固定于所述工作臺(tái)上。所述圓柱形永磁體安裝在所述工作臺(tái)上,且位于所述接收板的下方。所述高壓靜電發(fā)生器負(fù)極接所述針電極,正極接所述電極環(huán),且正極接地。
  3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于:所述噴嘴體和所述噴嘴頂蓋為非導(dǎo)磁材料(銅、鋁、工程塑料等)。
  4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于:所述電極環(huán)材質(zhì)為銅,直徑為20mm~60mm。
  5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于:所述電極環(huán)與所述針電極為同軸布置。
  6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于:所述高壓靜電發(fā)生器調(diào)節(jié)電壓為5KV~15KV的負(fù)高壓。
  7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于:所述圓柱形永磁體與所述環(huán)形永磁體為同軸布置。
  8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁場霧化的金剛石磨粒均勻噴射裝置及方法,其特征在于:所述金剛石磨粒為鍍鎳或鍍鈷金剛石磨粒。
 

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