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專利:一種類金剛石薄膜離子源中離子的引出裝置

關(guān)鍵詞 類金剛石|2016-07-25 09:18:49|行業(yè)專利|來(lái)源 中國(guó)超硬材料網(wǎng)
摘要 申請(qǐng)人:安徽純?cè)村兡た萍加邢薰景l(fā)明人:張心鳳;鄭杰;尹輝摘要:本實(shí)用新型公開了一種類金剛石薄膜離子源中離子的引出裝置
       申請(qǐng)人: 安徽純?cè)村兡た萍加邢薰?
       發(fā)明人: 張心鳳; 鄭杰; 尹輝
       摘要: 本實(shí)用新型公開了一種類金剛石薄膜離子源中離子的引出裝置,包括安裝于保護(hù)外殼左端的隔板,隔板中部橫向安裝有工藝氣體進(jìn)氣管,隔板左端面安裝有內(nèi)部擋板,內(nèi)部擋板外周的隔板上固定有安裝法蘭,安裝法蘭上安裝有離子源擋圈,內(nèi)部擋板外側(cè)間隔安裝有工藝氣體擴(kuò)散板,工藝氣體擴(kuò)散板外周設(shè)有貫穿安裝在內(nèi)部擋板和隔板上的陽(yáng)極,陽(yáng)極與工藝氣體擴(kuò)散板之間鎢絲。本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)新穎,通過(guò)工藝氣體擴(kuò)散板及陽(yáng)極的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),可以有效提高工藝氣體擴(kuò)散均勻性,從而使薄膜的均勻性提高和沉積速率,而且二者可調(diào)節(jié)。  

主權(quán)利要求:
       一種類金剛石薄膜離子源中離子的引出裝置,包括安裝于保護(hù)外殼左端的隔板,隔板中部橫向安裝有工藝氣體進(jìn)氣管,隔板左端面安裝有內(nèi)部擋板,內(nèi)部擋板外周的隔板上固定有安裝法蘭,其特征在于,所述的安裝法蘭上安裝有離子源擋圈,內(nèi)部擋板外側(cè)間隔安裝有工藝氣體擴(kuò)散板,工藝氣體擴(kuò)散板外周設(shè)有貫穿安裝在內(nèi)部擋板和隔板上的陽(yáng)極,陽(yáng)極與工藝氣體擴(kuò)散板之間設(shè)有鎢絲。
 

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