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       申請人：藍思科技股份有限公司

       摘要： 本發(fā)明公開了一種光學(xué)玻璃雙面精加工專用研磨墊及其制備方法，該研磨墊由下至上依次為雙面附膠的PC板層、PET膜層、無紡布層、磨體坯塊層；制備方法是將環(huán)氧樹脂、金剛石、滑石粉、硅灰石、鋁粉、石墨和碳化硅原料先通過模具澆鑄成型制備磨體坯塊坯體，粘貼無紡布、PET膜，采用熱壓法固化成型，冷卻脫模，粘貼PC板，模切成型即得；該制備方法操作簡單、成本低、效率高，制得的研磨墊研磨性能穩(wěn)定、研磨效率高，使用壽命長，用于光學(xué)玻璃精加工可獲得良好的表面質(zhì)量，且產(chǎn)品良率高，大大降低了光學(xué)玻璃加工成本。

       主權(quán)利要求：1.一種光學(xué)玻璃雙面精加工專用研磨墊，由下至上依次為雙面貼膠的PC板層、PET膜層、無紡布層、磨體坯塊層，其特征在于，所述的磨體坯塊層為由以下質(zhì)量百分比組分原料通過模具成型、熱壓固化制成：雙酚A型環(huán)氧樹脂30～55％；金剛石5～20％；滑石粉1～10％；硅灰石20～45％；鋁粉1～5％；石墨1～10％；碳化硅5～15％；氣相二氧化硅0.5～5％；所述雙酚A型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧值為0.8～0.9mol/100g，25℃條件下的粘度為200～220mpa.s，耐熱溫度為130～138℃。

       2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃雙面精加工專用研磨墊，其特征在于，所述的 金剛石平均粒徑為5～25um；所述的碳化硅平均粒徑為5～15μmμm；所述的滑石 粉平均粒徑為5～15μm；，所述的硅灰石平均粒徑為5～15μm；所述的石墨平均粒 徑為5～15μm；所述的鋁粉平均粒徑為5～15μm；其中，碳化硅平均粒徑要比所 述金剛石的平均粒徑小。

       3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃雙面精加工專用研磨墊，其特征在于，所述的 磨體坯塊由相等縱橫間距排布的長為2.0～3.0mm，寬為2.0～3.0mm，高為1.0～ 1.5mm的方形磨塊構(gòu)成，其中，長和寬尺寸相等。

       4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)玻璃雙面精加工專用研磨墊，其特征在于，方形磨 塊與方形磨塊之間的縱橫間距為1～2mm。

       5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)玻璃雙面精加工專用研磨墊，其特征在于，所述的 PET膜層厚度為115～135μm；所述的雙面貼膠的PC板層厚度為900～1200μm； 所述的無紡布層厚度為50um～100μm。

       6.一種如權(quán)利要求1～5任一項所述的光學(xué)玻璃雙面精加工專用研磨墊的制備方 法，其特征在于，將磨體坯塊層原料混合均勻后平整地填充到模具中，對填充在 模具中的磨體坯塊原料進行真空除泡處理后，將磨體坯塊原料表面刮平整，在刮 平整后的磨體坯塊原料表面貼一層無紡布，再在所述無紡布表面貼PET膜；將 貼了PET膜的模具置于固化爐中進行熱壓固化，冷卻、脫模，在PET膜表面粘 貼兩面附膠的PC板，即得。

       7.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述的熱壓固化采用階梯式升 溫固化：在90～105℃，保持0.3～0.7h；115～125℃，保持0.3～0.7h；130～138℃， 保持1～3h。

       8.如權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述的模具底部設(shè)有若干長為 2.0～3.0mm，寬為2.0～3.0mm，深度為1.0～1.5mm，且長和寬相等的方形凹槽。

       9.如權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述的方形凹槽以相等的縱橫 間距1～2mm有序排布在模具底部。

       10.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述的真空除泡處理時間為 30～60min。