美國(guó)SP3公司近期推出新型熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備——Model 665。這一新型雙反應(yīng)釜設(shè)備可一次性容納18片直徑為100毫米的基體，這意味著其沉積面積較其早期的單反應(yīng)釜設(shè)備提升了一倍。與早期產(chǎn)品相比，Model 665在保證原有CVD金剛石生長(zhǎng)質(zhì)量、沉積速率以及工藝一致性的基礎(chǔ)上加倍輸出產(chǎn)能，因此其購(gòu)置成本得以顯著降低。
　　顧客對(duì)高效率、低購(gòu)置成本設(shè)備的需求推動(dòng)了更高產(chǎn)能設(shè)備的發(fā)展。當(dāng)前，正全面進(jìn)入商業(yè)化的主要市場(chǎng)包括化學(xué)機(jī)械拋光用拋光墊以及水處理用金剛石涂層電極。將來(lái)，有望在Model 665的基礎(chǔ)上延伸出可實(shí)現(xiàn)更高產(chǎn)能的新一代設(shè)備，以期應(yīng)用到半導(dǎo)體晶圓的金剛石夾層生長(zhǎng)領(lǐng)域。
　　“CVD金剛石材料正在全面步入商業(yè)化”，SP3公司總裁兼首席運(yùn)營(yíng)官Dwain Aidala介紹說(shuō)，“由于金剛石的內(nèi)在價(jià)值已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可，令其在某些高增長(zhǎng)領(lǐng)域從研發(fā)及單件試生產(chǎn)進(jìn)入到批量生產(chǎn)階段，因此尺寸和產(chǎn)能是當(dāng)前的關(guān)鍵要素。越來(lái)越多的的客戶(hù)在生產(chǎn)時(shí)會(huì)用到CVD金剛石材料，我們能夠提供高產(chǎn)能設(shè)備，這在市場(chǎng)上是獨(dú)一無(wú)二的”。
　　基于其在耐磨性、化學(xué)惰性等方面的獨(dú)特表現(xiàn)，CVD 金剛石是制造化學(xué)機(jī)械拋光用拋光墊的理想材料。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，化學(xué)機(jī)械拋光的應(yīng)用正在快速增長(zhǎng)，具體表現(xiàn)在化學(xué)機(jī)械拋光的工藝步驟、金屬化層數(shù)量以及待拋光的材料種類(lèi)都在增加。這就要求CVD金剛石拋光墊具有更精細(xì)的線寬，并與日趨復(fù)雜的拋光液及拋光墊結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)更好的相容性。
　　CVD金剛石的另一個(gè)快速增長(zhǎng)的應(yīng)用市場(chǎng)是用于水處理的金剛石涂層電極。這些電極在被日益增多地應(yīng)用在到工業(yè)水處理及水過(guò)濾系統(tǒng)中，金剛石材料體現(xiàn)出化學(xué)惰性及選擇性摻雜的優(yōu)勢(shì)，確保系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)壽命及高可靠性。
　　關(guān)于Model 665
　　Model 665的新型雙反應(yīng)釜結(jié)構(gòu)具有sp3公司當(dāng)前設(shè)備的特征和優(yōu)點(diǎn)，如優(yōu)秀的厚度一致性、高產(chǎn)能、出眾的工藝可重復(fù)性、精確的工藝控制及較低的運(yùn)營(yíng)成本。與Model 650相比，Model 665僅增加了不足40%的成本，而產(chǎn)能則增加了一倍，因此大大降低了購(gòu)置成本。
　　Model665的兩個(gè)反應(yīng)釜總是運(yùn)行相同的工藝，其過(guò)程控制器、電路系統(tǒng)、氣體管路系統(tǒng)及真空控制系統(tǒng)在運(yùn)行中對(duì)兩個(gè)反應(yīng)釜同步控制。氣路及真空管路經(jīng)過(guò)了特殊設(shè)計(jì)，以精確平衡兩個(gè)反應(yīng)室的壓強(qiáng)和氣流，確保沉積過(guò)程的精密控制。該設(shè)備應(yīng)用現(xiàn)有的沉積工藝，僅需對(duì)抽真空及冷卻環(huán)節(jié)和進(jìn)行細(xì)微調(diào)整。操作方面也與Model 650極其類(lèi)似，區(qū)別僅體現(xiàn)在它是對(duì)兩個(gè)反應(yīng)釜進(jìn)行裝載和卸載，用戶(hù)界面獲得的也是兩個(gè)反應(yīng)釜的信息。此外，包括氣體、壓強(qiáng)、工藝流程的設(shè)置及運(yùn)行在內(nèi)的工藝控制，還有安全裝置和數(shù)據(jù)記錄，這些與Model 650并無(wú)二致。（